據報中國開始生產自主研發光刻機　現仍在原型機階段

據報中國開始生產自主研發製造晶片的關鍵設備光刻機。光刻機長期由荷蘭企業ASML艾司摩爾主導，之前在美國壓力下，被禁止向中國供應光刻機。

科技網站《THE INFORMATION》周一引述知情人士報道，上海一間有國資背景的企業已開始生產自主研發浸沒式深紫外光DUV光刻機，並計劃今年生產5部，交付給中芯國際、華虹半導體，以及長鑫存儲等中國晶片製造商，明年則增產至約20部。報道沒透露生產商身份，但消息指研發團隊來自幾間中國公司，包括上海宇量昇科技有限公司。

報道指國產光刻機有部分關鍵零件來自日本，目前在性能及可靠性方面，仍落後主導光刻機市場的荷蘭企業ASML艾司摩爾。國產光刻機需要進一步測試，未來才可以大規模生產，挑戰艾司摩爾在光刻機市場的地位。報道提到，中國亦正研發更先進、被美國禁止中方企業引入的極紫外光EUV光刻機，但現時仍在原型機階段。

晶片內部上億條極其微小的電路，需要光刻機在矽片上雕刻。目前只能依靠荷蘭生產的EUV光刻機才能實現，但荷蘭禁止將光刻機出口至中國，窒礙了中國在「幾何縮微」技術的發展。報道指，國產先進光刻機的出現，將為中國晶片製造商提供另一個生產設備來源，有助解決半導體發展被「卡脖子」的情況。